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產(chǎn)品名稱：XRF-2020測(cè)膜厚儀韓國(guó)MicroP微先鋒測(cè)厚儀
產(chǎn)品型號(hào)：
產(chǎn)品報(bào)價(jià)：
產(chǎn)品特點(diǎn)：Micro P XRF-2020電鍍測(cè)厚儀韓國(guó)先鋒快速無(wú)損測(cè)量電鍍層厚度測(cè)量鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鋅鎳,鍍錫...可測(cè)單層,雙層,多層,合金鍍層XRF-2020測(cè)膜厚儀韓國(guó)MicroP微先鋒測(cè)厚儀
XRF-2020測(cè)膜厚儀韓國(guó)MicroP微先鋒測(cè)厚儀的詳細(xì)資料：
XRF-2020測(cè)膜厚儀韓國(guó)MicroP微先鋒測(cè)厚儀
韓國(guó)微先鋒MicroP XRF-2020
Micropioneer XRF-2000系列
快速無(wú)損測(cè)量電鍍層厚度
測(cè)量鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鋅鎳,鍍錫...不限基材
鍍銀測(cè)量范圍0.1-50um
鍍鎳測(cè)量范圍0.5-30um
鍍銅測(cè)量范圍0.5-30um
鍍金測(cè)量范圍0.02-6um
鍍錫測(cè)量范圍1-60um
鍍鋅測(cè)量范圍0.5-30um
鋅鎳合金測(cè)量范圍1-25um
可用于測(cè)量工件、PCB及五金、連接器、半導(dǎo)體等產(chǎn)品的各種金屬鍍層的厚度。
只需要10-30秒即可獲得測(cè)量結(jié)果, 小測(cè)量面積為直徑為0.2mm的圓面積;
測(cè)量范圍：0-35um;
可測(cè)量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度
可通過(guò)CCD攝像機(jī)來(lái)觀察及選擇任意的微小面積以進(jìn)行微小面積鍍層厚度的測(cè)量
儀器規(guī)格
XRF-2020L型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高3cm:臺(tái)面載重3kg
XRF-2020H型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高12cm:臺(tái)載重5kg
儀器全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量
多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇：0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03*0.5mm
可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換
MicroPXRF-2000鍍層測(cè)厚儀
快速無(wú)損測(cè)量
鍍金，鍍銀，鍍錫，鍍銀，鍍鎳，鍍銅，鍍鋅鎳合金等！
Microp XRF-2000型號(hào)已升級(jí)為XRF-2020
微先鋒MicroP XRF-2020
通過(guò)CCD鏡頭觀察快速無(wú)損測(cè)試鍍層膜厚
測(cè)量鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鋅鎳,鍍錫
測(cè)量的鍍層范圍:0um～35um。
XRF-2020測(cè)膜厚儀韓國(guó)MicroP微先鋒測(cè)厚儀
測(cè)量原理：
物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。
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